DISPONIBLE A PARTIR DE DICIEMBRE DE 2023
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Descripción
La espectroscopía de fotoelectrones emitidos por rayos-X (XPS, X-ray fotoelectron spectroscopy/ESCA, Electron Scattering for Chemical Analysis) es una técnica no destructiva para el análisis químico de los elementos (Z>2) presentes en los primeros 10nm de una muestra. Es una técnica única para el análisis químico de superficies. La muestra es excitada por rayos-X y ésta emite fotoelectrones con diferentes energías correspondientes al orbital atómico que los emite. Según el entorno químico del átomo, la energía de los electrones emitidos cambia ligeramente por lo que puede identificarse tanto el elemento como su entorno químico (con qué otro elemento forma un enlace). La técnica es cualitativa y cuantitativa.
La técnica puede trabajar in-operando en condiciones UHV (Ultra High Vacuum) o NAP (Near Ambient Pressure) con atmósfera presurizada de H2, O2 o CO2, tanto a temperatura ambiente como hasta 900ºC. Dispone de una cámara de alta presión para realizar tratamientos hasta 20 bar y transferir la muestra a la cámara principal para ser analizada. También dispone de una cámara de evaporación para realizar deposiciciones en la muestra y transferirla a la cámara de análisis.
Las muestras pueden ser de cualquier tipo: polvo (inorgánica/orgánica), másica (cerámica, sensores, metales, pinturas, capas delgadas) y líquida. También permite introducir muestras desde una caja seca (glove box).
SPECS Provenx NAP System
- Analizador PHOIBOS 150 NAP, compatible XPS y UPS
- Fuente monocromática de rayos-X μ-FOCUS 600 NAP (Al/Ag)
- Manipulador de la muestra FlexMan NAP de 4 ejes (X, Y, Z e inclinación) con control de la temperatura (-192º a 900ºC)
- Cámara de análisis NAP Backfilling (μ-metal)
- Cámara de almacenaje de hasta 4 muestras
- Programario SpecsLab Prodigy y Prodigy ISQAR
- Espectrómetro de masas quadrupol EV2-220-000 (<200 amu)
- Sistema de control de tres gases (O2, H2, CO2)
- Cámara digital para la observación de la muestra con puntero láser
- Neutralizador de carga Flood Gun FG 22/35
- Fuente para la espectroscopia ultra-violeta UVS 300
- Fuente de iones de Ar para erosionar la muestra
- Evaporador EBE-4-2L2F de hasta 4 materiales diferentes
- Cámara de alta presión HPC 20 hasta 20 bar y 800ºC
- Muestras sólidas (polvo o bulk) orgánicas y inorgánicas
- Membranas y filtros
- Capilares y fibras
- Capas delgadas
- Circuitos eléctricos
- Muestras sensibles al ambiente
- Monocristales
- Pinturas y recubrimientos
- Catalizadores
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Contacta con el
responsable - Dr. Daniel Ruano Sánchez
- 977558165
- daniel.ruano(ELIMINAR)@fundacio.urv.cat
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Coordinador técnico
- Ramon Guerrero Grueso
- 977558149
- ramon.guerrero(ELIMINAR)@urv.cat
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